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第250章 什么都不做(第1页)

“很好,能量均匀性达到了95,已经过预期。”许志远点了点头,脸上浮现出一丝满意的笑容。

接下来,他需要解决光源的能量稳定性问题。他从材料堆中取出一块特制的能量调节模块,安装在激光器的输出端口上。这个模块能实时监控光束的能量变化,并自动进行调整,确保输出光束始终保持在设定范围内。

“光源系统,完成第一阶段。”许志远合上激光器的盖板,目光中透着一抹坚定。

第二步:光学投影系统的制造

光学投影系统是光刻机的核心之一,它的作用是将掩模版上的电路图案精准地投影到硅片上。而这一过程对镜头的精度要求极高,镜片需要达到亚纳米级的加工精度,才能确保投影的清晰度和精准度。

许志远走到小世界的一台精密加工设备前。机器的外观像是一台放大版的车床,但它的内部却装备了世界顶尖的光学加工技术。

“系统,加载镜片加工程序。”他输入指令,设备立刻开始运转。

一块直径5o厘米的光学玻璃被装载到设备中,许志远亲手调试了加工参数。这块玻璃将被打磨成一块具有多层镀膜的反射镜,每一层镀膜的厚度都必须精确到纳米级。

加工过程中,他的目光始终紧盯着屏幕上的参数变化,手指不时在控制面板上轻轻敲击,实时调整加工进度。

几个小时后,第一块镜片加工完成。许志远将镜片取下,放在光学检测仪下仔细检查。

“表面光滑度达到了o2纳米,反射率接近理论极限。”他嘴角微扬,将镜片放入光学系统的框架中。

接下来,他需要加工更多的镜片,并将它们组装成一个多层反射镜组。这个过程极为复杂,但许志远的动作始终流畅而稳健,仿佛这是一场早已演练过无数次的操作。

第三步:步进扫描平台的设计

光刻机的步进扫描平台负责移动硅片,并确保硅片的位置误差不过1纳米。这需要极高的机械精度和控制精度。

“机械精度和控制精度……这才是最考验人的地方。”许志远摸了摸下巴,目光落在一堆高强度金属材料上。

他先用数控机床加工出平台的框架,再安装上高精度的导轨和伺服电机。为了提高平台的稳定性,他在机床上将导轨的表面打磨到镜面光滑,并采用特殊的减震材料对框架进行加固。

随后,他开始调试伺服控制系统。这套系统由系统提供的算法支持,可以实时校正平台的运动轨迹,确保硅片在扫描过程中始终保持在设定的轨道上。

“系统,运行控制模拟。”许志远输入指令,平台立刻开始运转。

屏幕上显示出平台的运动轨迹,误差范围始终保持在o5纳米以内。

“不错,这个精度已经足够了。”他满意地点了点头。

第四步:掩模版与光刻胶的研

掩模版是光刻机的“模具”,它决定了芯片电路的具体形状和尺寸。许志远从材料堆中取出一块特制的金属板,开始在上面刻蚀电路图案。

他使用的是系统提供的高精度刻蚀设备,这台设备能够在金属表面刻出精确到纳米级的图案。

“完成!”当第一块掩模版刻蚀完成时,许志远长舒了一口气,将它放入光学系统中进行测试。

接下来,他需要研一种新型的光刻胶。这种材料必须对光线高度敏感,同时具备良好的化学稳定性。

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